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帖子主题:氮中四氟化碳气体标准物质的研制 |
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【关键词】四氟化碳,,称量法,,标准气体,,电子天平,,等离子体蚀刻气体,,薄膜材料
【摘要】本文的主要工作是研制氮中四氟化碳标准气体,填补我国在这一领域的空白,并探索应用电子天平配制标准气体的新方法。<br> 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术等方面也有大量应用。而四氟化碳又是一种很重要的温室气体,在生产和使用过程中,通过扩散并释放到大气中,破坏臭氧层。
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